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小流量液体蒸发,CVD工艺应用

更新时间:2026-01-23      点击次数:67

混合蒸发器系统作为一款高性能的前驱体输送解决方案,其应用范围已实现多市场、多场景的成熟落地应用。除精密实验仪器领域的常规适配外,该系统还可广泛应用于半导体、太阳能电池制造的核心制程,有效支撑导电层/绝缘层沉积、真空工艺及化学气相沉积(CVD)等关键工艺环节的高效实施。

我司经过凭借十余年精密流体测控领域技术积淀,结合国外先进技术,成功研发了气液混合蒸发系统,可为用户定制满足严苛工艺需求的专属解决方案,聚焦快速响应、精准调节、高效蒸发三大核心能力,助力提升混合过程控制精度与生产效率。

 

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气液混合蒸发系统,由五个部分组成:一个液体流量控制器(用于控制液体源流量),一个或多个气体质量流量控制器(用于控制载气流量),一个温度可调的混合蒸发器(用于液体汽化);一个可选的流量温度显示控制仪(用于设定流量和温度),一个可选的汽化后稀释气体流量控制器(用于产出蒸汽的稀释)。

典型的CEM 系统如上图所示:

1、可控制液体流量的(待蒸发的液态前驱体)液体流量控制器/流量计、气体流量控制器、蒸发器本体及温度控制仪。

2、可以利用PLC 和DCS 系统通过MODBUS 或DEVICENET 等协议实现集中控制,或单独配备的显示控制仪进行手动操控;可以增加一台或者多台载气流量控制器,实现多组份载气注入。

3、 蒸汽出口,可以增加三通,接入一台气体质量流量控制器,对产出蒸汽进行稀释。

 

如需沟通具体工况应用可联系页面的产品经理。

 

 

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