低蒸气压控制器：赋能薄膜工艺，助力产业升级

在薄膜制作工艺中，某些金属有机化合物（MOCs）、氢化物、氨气等前驱体蒸气压远远低于标准大气压（760 Torr），在常温下很难蒸发。这些前驱体需要被输送到化学气相沉积(CVD)反应器中，传统的方法是，使用溶剂/溶质化学和液体输送。某些固体前驱体有溶解度限制，这影响了输送到工艺腔的最大质量流量。

    我们采用了先进的压力测量和控制技术，可直接控制固体前驱体蒸汽的输送，无需使用溶剂，从而实现精确、可重复的输送，让薄膜材料制备更加高效。

针对不同领域对流量范围的需求，我们的低蒸气压控制器内置了强大的CPU，可实现宽范围的智能流量控制，控制范围为全量程的10%~100%。

此低蒸气压控制器可在30℃~200℃的操作温度范围内保持稳定测控，适用于恶劣环境。采用Modbus协议（RS485/232），轻松实现与计算机或其他设备的连接，进行数据通信和远程控制。

广泛应用于各行业的薄膜制作工艺，如半导体的集成电路制造、光伏薄膜太阳能电池、新材料研发、医疗器械生物传感器等众多行业，通过关键性薄膜工艺，赋能各行业生产高质量薄膜材料。

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